光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，是集成电路制造行业的核心设备。本文对光刻机的产业发展路径展开分析，从全球产业链与创新链布局、光刻机技术沿革、阿斯麦（ASML）发展历程、中国的产业政策等多个视角进行梳理，展望中国光刻机产业的未来发展方向。现阶段，中国在光刻机领域仍然面临技术瓶颈，从国家战略层面出发，政府和企业均需要做好光刻机研发“持久战”的准备，保障光刻机产业政策的连贯性。从政策层面出发，一方面，需要推动形成良好的上下游合作关系，提高政策瞄准精度以及重视研发体系构建；另一方面，要推动产业分工，加强开放合作，加快光刻机产业链国产替代进程。 <<