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北京市政府R&D资助的激励效果分析——基于门槛回归的经验证据
摘要
政府R&D资助对企业R&D投入具有正反两方面作用。利用门槛回归模型,本研究对北京市政府R&D资助的激励效果进行了实证检验。检验结果显示,北京市政府R&D资助对企业R&D投入的激励效果具有显著的门槛效应,其激励效果随资助规模的提高表现出递减趋势。
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作者简介

罗植: 罗植,博士,北京市社会科学院助理研究员,主要研究方向:公共管理、公共政策分析、政府管理创新研究。

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