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    北京市政府R&D资助的激励效果分析——基于门槛回归的经验证据

    摘要

    政府R&D资助对企业R&D投入具有正反两方面作用。利用门槛回归模型,本研究对北京市政府R&D资助的激励效果进行了实证检验。检验结果显示,北京市政府R&D资助对企业R&D投入的激励效果具有显著的门槛效应,其激励效果随资助规模的提高表现出递减趋势。

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    Abstract

    Government funding on enterprise R&D input have both positive and negative effect. This empirical study tested the non-linear relationship between government funding of R&D and private R&D expenditure. The result shows that the threshold effect of government funding of R&D is significant and the marginal effect is decreasing with the funding size increasing.

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    作者简介
    罗植:罗植,博士,北京市社会科学院助理研究员,主要研究方向:公共管理、公共政策分析、政府管理创新研究。
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