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北京市政府资助对企业R&D投入的激励效应及影响因素研究
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摘要
在门槛回归模型的基础上，本报告实证检验了北京市政府的R&D资助对企业科技投入的激励效应，同时分析了影响这一效应的主要因素。实证检验的结果说明，政府R&D资助对企业科技投入的激励存在显著的门槛效应，该门槛效应受到资助强度、企业规模和产权结构的影响。从激励企业R&D投入的角度看，政府R&D资助强度最好控制在9%以内，且对大企业或国有企业的资助更为有效。
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关键词： 政府R&D资助企业R&D投入门槛效应
作者简介

罗植： 罗植，北京市社会科学院管理研究所副研究员，博士，主要研究方向为公共管理、公共政策分析。

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